上海物光WGL光電輪廓儀特點：

本儀器采用非接觸、光學(xué)相移干涉測量方法，測量時不損傷工件表面，能快速測得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，并分析計算出測量結(jié)果。適用于測量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度；標(biāo)尺、度盤的刻線深度；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌；磁（光）盤、磁頭表面結(jié)構(gòu)測量；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測量等等。

由于儀器測量精度高，具有非接觸和三維測量的特點，并采用計算機(jī)控制和快速分析、計算測量結(jié)果，本儀器適用于各級測試、計量研究單位工礦企業(yè)計量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等。

上海物光WGL光電輪廓儀主要技術(shù)參數(shù)：

表面微觀不平深度測量范圍

在連續(xù)表面上，相鄰二象素之間沒有大于1 / 4 波長的高度突變時：1000 一1nm

相鄰二象素之間含有大于1 / 4 波長的高度突變時：130 一1nm

測量的重復(fù)性：δRa ≤0.5nm

物鏡倍率:40X

數(shù)值孔徑:Φ 65  

工作距離:0.5mm

儀器視場  目視: Φ0.25mm

攝象: 0.13×0.13mm

儀器放大倍數(shù) 目視: 500×

攝象（計算機(jī)屏幕觀察）一2500×

接收器測量列陣:1000X1000

象素尺寸:5.2×5.2μm

測量時間采樣（掃描）時間:1S

儀器標(biāo)準(zhǔn)鏡     反射率（高）: ～50 %

反射率（低）: ～4 %

照明光源:白熾燈6V 5W

綠色干涉濾光片波長:λ≒530nm  

半寬度λ≒10nm  

主顯微鏡升程:110 mm

工作臺升程:5 mm

X 、丫方向移動范圍: ～10 mm

工作臺旋轉(zhuǎn)運動范圍:360°

工作臺頃斜范圍：±6°

計算機(jī)系統(tǒng)：P4 , 2 .8G 以上，內(nèi)存1G以上17寸純平顯示器

特點：本儀器采用非接觸、光學(xué)相移干涉測量方法，測量時不損傷工件表面，能快速測得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，并分析計算出測量結(jié)果。適用于測量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度；標(biāo)尺、度盤的刻線深度；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌；磁（光）盤、磁頭表面結(jié)構(gòu)測量；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測量等等。

由于儀器測量精度高，具有非接觸和三維測量的特點，并采用計算機(jī)控制和快速分析、計算測量結(jié)果，本儀器適用于各級測試、計量研究單位工礦企業(yè)計量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等。

上海物光WGL主要技術(shù)參數(shù)：

表面微觀不平深度測量范圍

在連續(xù)表面上，相鄰二象素之間沒有大于1 / 4 波長的高度突變時：1000 一1nm

相鄰二象素之間含有大于1 / 4 波長的高度突變時：130 一1nm

測量的重復(fù)性：δRa ≤0.5nm

物鏡倍率:40X

數(shù)值孔徑:Φ 65  

工作距離:0.5mm

儀器視場  目視: Φ0.25mm

攝象: 0.13×0.13mm

儀器放大倍數(shù) 目視: 500×

攝象（計算機(jī)屏幕觀察）一2500×

接收器測量列陣:1000X1000

象素尺寸:5.2×5.2μm

測量時間采樣（掃描）時間:1S

儀器標(biāo)準(zhǔn)鏡     反射率（高）: ～50 %

反射率（低）: ～4 %

照明光源:白熾燈6V 5W

綠色干涉濾光片波長:λ≒530nm  

半寬度λ≒10nm  

主顯微鏡升程:110 mm

工作臺升程:5 mm

X 、丫方向移動范圍: ～10 mm

工作臺旋轉(zhuǎn)運動范圍:360°

工作臺頃斜范圍：±6°

計算機(jī)系統(tǒng)：P4 , 2 .8G 以上，內(nèi)存1G以上17寸純平顯示器